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후지필름 워크플로우 XMF V.6.1
글 오광호 2015-01-27 오전 10:15:33 |   지면 발행 ( 2015년 2월호 - 전체 보기 )



업계 최초 APPE V3.0-Mercury RIP 탑재

후지필름 워크플로우 XMF V.6.1

(주)성도GL에서 옵셋부터 디지털까지 다양한 시스템 장치들의 자동화 공정을 가능하게 하는 후지필름 워크플로우 XMF의 업그레이드 버전 V.6.1을 국내에 출시했다. APPE를 기반으로 하고 있으며, 업계 최초로 APPE V3인 Mercury RIP이 탑재되어 Adobe Creative Cloud까지 완벽한 출력 지원 및 다양한 출력 장치에 적용 가능하다. 기존 5명의 멀티 유저시스템을 확장하여 추가 옵션 없이 10명까지 동시 접속이 가능하다. 또한, PPML기반의 PDF-VT포맷 출력을 지원하여 다양한 가변데이터 처리가 가능하다. MIS서버와의 호환성을 강화했고, 탁월한 Ink Saving 옵션을 지원하여 잉크 사용량의 10~20%의 잉크 절감효과를 기대할 수 있다.
(주)성도GL TEL.02.3406.7000

<SignMunhwa>

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관련 태그 : 후지필름 워크플로우 성도GL XMF  
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분류: 신제품
2015년 2월호
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